| 主权项 |
1.一种显示系统,其系包含:调光元件,其系可切换 光反射状态及光透过状态而呈现者;及显示元件, 其系藉由调制透过前述调光元件之光及/或由前述 调光元件所反射之光,以显示资讯者;且 前述调光元件具有可分别独立切换光反射状态及 光透过状态而呈现之复数区域,当于前述显示元件 显示复数种类资讯时,可按照前述显示之资讯种类 ,选择性地切换前述复数区域之各光反射状态及光 透过状态; 前述调光元件系具备包含第一层及第二层之叠层 构造,前述第一层之光反射率应答外部刺激变化者 ; 前述第一层包含第一材料,其系光学特性按照特定 元素浓度而变化者; 前述第二层包含可含有前述特定元素之第二材料, 前述第二材料按照前述外部刺激,放出或吸收前述 特定元素。 2.如申请专利范围第1项之显示系统,其中前述显示 元件将相异种类之显示信号供给藉由调制透过前 述调光元件之光而进行显示之第一显示区域,及藉 由调制由前述调光元件所反射之光而进行显示之 第二显示区域。 3.如申请专利范围第1项之显示系统,其中前述显示 元件包含复数像素; 前述调光元件所包含之前述复数区域之各国系以 一对一对应于前述复数像素之各个。 4.如申请专利范围第1项之显示系统,其中前述调光 元件系包含光反射率应答外部刺激而变化之调光 层者; 前述调光层包含光学特性按照特定元素浓度而变 化之第一材料,前述第一材料为粒子。 5.一种显示系统,其系包含:调光元件,其系可切换 光反射状态及光透过状态而呈现者;及显示元件, 其系藉由调制入射光以进行显示者;且 前述调光元件系具备包含第一层及第二层之叠层 构造,前述第一层之光反射率应答外部刺激而变化 者; 前述第一层包含第一材料,其系光学特性按照特定 元素浓度而变化者; 前述第二层包含可含有前述特定元素之第二材料, 前述第二材料按照前述外部刺激,放出或吸收前述 特定元素。 6.如申请专利范围第5项之显示系统,其中前述显示 元件系藉由调制透过前述调光元件之光及/或由前 述调光元件所反射之光,以进行显示。 7.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 元素为氢,前述第一材料可按照氢浓度,于光反射 状态及光透过状态之间迁移。 8.如申请专利范围第7项之显示系统,其中前述第二 层包含氢贮藏材料。 9.如申请专利范围第8项之显示系统,其中于前述第 一层及前述第二层各个之氢平衡压-组成等温线( PTC特性曲线)大致平坦之区域动作。 10.如申请专利范围第9项之显示系统,其中于前述 PTC特性曲线大致平坦之区域,前述第一层及前述第 二层之氢平衡压力大致同等。 11.如申请专利范围第10项之显示系统,其中前述第 二层之PTC特性曲线大致平坦之区域之氢贮藏量范 围系包含前述第一层之PTC特性曲线大致平坦之区 域之氢贮藏量范围。 12.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 第二材料系藉由电子授受,进行前述特定元素之放 出或吸收。 13.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 第二材料系藉由光照射,进行前述特定元素之放出 或吸收。 14.如申请专利范围第13项之显示系统,其中前述第 二层包含具有光触媒性之材料。 15.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中包含1 对导电层,其系形成为使前述特定元素之离子由前 述第二材料往前述第一材料,或由前述第一材料往 前述第二材料移动之电场者。 16.如申请专利范围第15项之显示系统,其中前述第 一及第二层位于前述1对导电层之间。 17.如申请专利范围第15项之显示系统,其中前述第 一层具有导电性,并起作用作为前述1对导电层之 一方。 18.如申请专利范围第15项之显示系统,其中前述第 二层具有导电性,并起作用作为前述1对导电层之 一方。 19.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 第二层具有光透过性。 20.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 第一层及第二层之至少一方包含多层构造。 21.一种显示系统,其系包含:调光元件,其系可切换 光反射状态及光透过状态而呈现者;及 显示元件,其系藉由调制入射光,以进行显示者;且 前述调光元件系包含光反射率应答外部刺激而变 化之调光层者; 前述调光层包含光学特性按照特定元素浓度而变 化之第一材料,前述第一材料为粒子。 22.如申请专利范围第21项之显示系统,其中前述显 示元件系藉由调制透过前述调光元件之光及/或由 前述调光元件所反射之光,以进行显示。 23.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 第一材料可按照前述特定元素浓度,于光反射状态 及光透过状态之间迁移。 24.如申请专利范围第23项之显示系统,其中于前述 第一材料为前述光反射状态时,前述调光层扩散反 射光。 25.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 粒子之直径为350 nm以上,并且为前述调光层之厚度 以下。 26.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 特定元素为氢。 27.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中进一 步具备转换层,其系包含可含有前述特定元素之第 二材料者;前述第二材料按照前述外部刺激,放出 或吸收前述特定元素。 28.如申请专利范围第27项之显示系统,其中前述特 定元素为氢,前述转换层包含氢贮藏材料。 29.如申请专利范围第28项之显示系统,其中于前述 调光层及前述转换层各个之氢平衡压-组成等温线 (PTC特性曲线)大致平坦之区域动作。 30.如申请专利范围第29项之显示系统,其中于前述 PTC特性曲线大致平坦之区域,前述调光层及前述转 换层之氢平衡压力大致同等。 31.如申请专利范围第30项之显示系统,其中前述转 换层之PTC特性曲线大致平坦之区域之氢贮藏量范 围系包含前述调光层之PTC特性曲线大致平坦之区 域之氢贮藏量范围。 32.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 第二材料系藉由电子授受,进行前述特定元素之放 出或吸收。 33.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 第二材料系藉由电性化学反应,进行前述特定元素 之放出或吸收。 34.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中包含 1对导电层,其系形成为使前述特定元素之离子由 前述第二材料往前述第一材料,或由前述第一材料 往前述第二材料移动之电场者。 35.如申请专利范围第34项之显示系统,其中前述调 光层及前述转换层位于前述1对导电层之间。 36.如申请专利范围第34项之显示系统,其中前述调 光层具有导电性,并起作用作为前述1对导电层之 一方。 37.如申请专利范围第34项之显示系统,其中前述转 换层具有导电性,并起作用作为前述1对导电层之 一方。 38.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 转换层具有光透过性。 39.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 调光层及转换层之至少一方包含多层构造。 40.如申请专利范围第1、5及21项中任一项之显示系 统,其中前述显示元件系包含1对基板及设置于前 述1对基板间之液晶层之液晶显示元件。 41.如申请专利范围第1、5及21项中任一项之显示系 统,其中进一步包含照明装置,其系对于前述显示 元件配置于与观察者相反侧。 42.如申请专利范围第41项之显示系统,其中前述调 光元件配置于前述显示元件及前述照明装置之间 。 43.如申请专利范围第1、5及21项中任一项之显示系 统,其中前述调光元件设置于前述显示元件内部。 44.如申请专利范围第1、5及21项中任一项之显示系 统,其中前述显示元件包含第一彩色滤光器。 45.如申请专利范围第1、5及21项中任一项之显示系 统,其中前述调光元件包含第二彩色滤光器。 46.如申请专利范围第1或5项之显示系统,其中前述 显示元件包含第一彩色滤光器,前述调光元件包含 第二彩色滤光器,前述第二彩色滤光器对于前述第 一层配置于与观察者相反侧。 47.如申请专利范围第4或21项之显示系统,其中前述 显示元件包含第一彩色滤光器,前述调光元件包含 第二彩色滤光器,前述第二彩色滤光器对于前述调 光层配置于与观察者相反侧。 图式简单说明: 图1系模式性表示本发明显示系统之剖面图。 图2系表示按照内容种类而切换显示模式之状态之 模式图。 图3系表示切换显示模式之态样之模式图。 图4系表示切换显示模式之态样之模式图。 图5系模式性表示调光元件之构成之剖面图。 图6(a)~(c)系表示图5所示之调光元件之动作原理图 。 图7系模式性表示调光元件之剖面图。 图8系表示调光层及转换层之氢平衡压-组成等温 线(PTC特性曲线)图。 图9系表示其他调光元件之动作图。 图10系模式性表示其他调光元件之剖面图。 图11系模式性表示其他调光元件之剖面图。 图12系模式性表示其他调光元件之剖面图。 图13系模式性表示其他调光元件之剖面图。 图14系表示本发明显示系统之第一实施型态之剖 面图。 图15系表示本发明显示系统之第二实施型态之剖 面图。 图16系表示本发明显示系统之第三实施型态之剖 面图。 图17系表示本发明显示系统之第三实施型态之剖 面图。 图18系表示本发明显示系统之第三实施型态之剖 面图。 图19系表示本发明显示系统之第四实施型态之剖 面图。 图20系模式性表示包含调光粒子之调光元件之构 成之剖面图。 图21系模式性表示包含调光粒子之调光元件之剖 面图。 图22(a)、(b)系模式性表示包含调光粒子之其他调 光元件之剖面图。 图23系模式性表示包含调光粒子之其他调光元件 之剖面图。 |
