发明名称 |
电子装置制造方法和电子装置 |
摘要 |
本发明的电子装置制造方法具有下述工序:在上述导电部所有体500的表面上形成覆盖膜100的工序;在形成有上述覆盖膜100的导电体500上形成感光性膜110的工序;对上述感光性膜110进行曝光使之成为与凹部或凸部的图形相对应的图形的工序;对上述已被曝光的感光性膜110进行显影的工序;以及对上述已被显影的感光性膜110进行烘烤的工序。通过该制造方法,就可缓和以超过必要的程度除去金属膜的现象。 |
申请公布号 |
CN100465702C |
申请公布日期 |
2009.03.04 |
申请号 |
CN200380107511.3 |
申请日期 |
2003.12.24 |
申请人 |
统宝香港控股有限公司 |
发明人 |
住尚树 |
分类号 |
G02F1/13(2006.01);G02F1/1343(2006.01);G02F1/1368(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/13(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
浦柏明;刘宗杰 |
主权项 |
1.一种电子装置制造方法,其特征在于,具有下述工序:在形成绝缘膜的支撑体上形成第1导电部所有体的工序,上述第1导电部所有体具有第1导电部和第2导电部,上述第1导电部含有第1金属或金属化合物,上述第1金属或金属化合物具有第1平衡电极电位,上述第2导电部含有第2金属或金属化合物,上述第2金属或金属化合物具有第2平衡电极电位,上述第2导电部电连接到上述第1导电部上,上述第1和第2导电部在上述第1导电部所有体的表面上露出,上述绝缘膜上形成使上述第1导电部电连接到上述第2导电部上的孔;在上述第1导电部所有体的上述表面上形成覆盖膜的工序;在形成了上述覆盖膜的第1导电部所有体上形成感光性膜的工序;对上述感光性膜进行曝光使之成为既定的曝光图形的工序;以及对上述已被曝光的感光性膜进行显影的工序. |
地址 |
香港沙田香港科学园区科技大道东5号飞利浦大厦二楼 |