| 摘要 |
[课题]本发明之目的系获得一种光阻底层膜形成组成物，其特征系可均一地涂布，并在热硬化时其昇华物之发生可被抑制者。进一步，本发明之目的并系获得一种用以形成光阻底层膜之组成物，其特征系对于上层之光阻之乾蚀刻之选择比为大者。 [解决手段]一种形成微影用光阻底层膜之组成物，其特征为含有：具有下式(1)#P 097132832P01.bmp{式中，R#sP!1#eP!及R#sP!2#eP!系为-X-Y[式中，x系氧原子、碳原子数1至18之伸烷基或-OC#sB!n#eB!H#sB!2n#eB!-（式中，n系1至18之整数）所示之基，Y系内酯环或金刚烷环]所示之基，或者R#sP!1#eP!及R#sP!2#eP!之一者系该-X-Y所示之基，另一者系芳基、甲基、乙基或碳原子数3至6之环状烷基)}所示单位构造之聚矽烷化合物、及有机溶剂。 |
