| 发明名称 |
Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist |
| 摘要 |
Ethylenically unsaturated esters of difunctional acids and polymethylene glycols terminated with acrylate and methacrylate groups are useful as monomers in photopolymerizable compositions.
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| 申请公布号 |
US4230790(A) |
申请公布日期 |
1980.10.28 |
| 申请号 |
US19790008048 |
申请日期 |
1979.01.31 |
| 申请人 |
E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
HILL, MARTIN J. |
| 分类号 |
G03F7/027;(IPC1-7):G03C1/68 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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