发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
摘要 350 ㎚ ∼ 500 ㎚ 의 파장의 광으로 효율적으로 감광하고, 후막 경화성, 심부 경화성이 우수한 감광성 수지 조성물을 제공한다. 본 발명은 일반식 (1) 또는 일반식 (2) 로 나타내는 화합물로서 활성 광선의 조사에 의해 염기를 발생시키는 광 염기 발생제 (A), 열 라디칼 중합 개시제 (B) 및 라디칼 중합성 물질 (C) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물이다.[식 중, Ar 은 벤젠 골격을 적어도 1 개 갖고, 할로겐 원자 등으로 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 복소 고리기 ; R및 R는 각각 독립적으로, 1 ∼ 20 의 알킬기 등 ; m 은, 2 ∼ 4 의 정수 ; R∼ R는 각각 독립적으로, 할로겐 원자 등으로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 페닐기 또는 나프틸기 ; X는, 음이온을 나타낸다]
申请公布号 KR101631346(B1) 申请公布日期 2016.06.16
申请号 KR20117021544 申请日期 2010.02.09
申请人 산아프로 가부시키가이샤 发明人 무카이 다카오;사카키바라 메구무
分类号 C07C211/63;C07D335/16;C08F4/40;G03F7/031 主分类号 C07C211/63
代理机构 代理人
主权项
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