| 摘要 |
본 발명의 쇼트 처리 장치(10)는, 자전 가능하고 또한 슬라이드 가능하게 되며, 자전축선 상에 가공물(12)을 유지하는 유지지그(14)와, 각각 회전가능한 임펠러(60)를 가지며, 각각의 임펠러(60)의 회전축선(A)으로부터 서로 평행하게 되는 동시에, 서로 임펠러(60)의 회전축선 방향으로 오프셋해서 배치되고, 또한 각 임펠러(60)의 회전에 따라서 가공물(12)을 향하여 병렬로 투사재를 투사가능하게 된 한 쌍의 원심식 투사기(22, 24)를 구비하고 있다. 이러한 구성에 의하면, 한 쌍의 원심식 투사기(22, 24)로부터 투사재가 각각 투사된 경우라도, 일방의 원심식 투사기(22)로부터의 투사재와 타방의 원심식 투사기(24)로부터의 투사재가 상쇄되는 것이 억제되므로, 투사효율을 향상시킬 수 있다. |
