发明名称 Method of making a semiconductor device including complementary transistors.
摘要 <p>Es wird ein hinsichtlich Herstellung und Betriebseigenschaften verbesserter Aufbau von Bipolartransistoren, vorzugsweise von vertikalen PNP-Transistoren, angegeben. Als Emitter wird dabei ein Schottky-Kontakt (72) vorgesehen, der auf einem jeweils zugehörigen Basisgebiet (59) mit relativ niedriger Dotierungskonzentration in Form einer Metallbelegung aufgebracht wird. Damit lassen sich vorteilhaft, z.B. in einem konventionellen NPN-Bipolarprozeß, komplementäre Bipolartransistoren (25, 27) mit hoher Pakkungsdichte und insbesondere verbesserten Eigenschaften der PNP-Transistoren (25) aufbauen.</p>
申请公布号 EP0017021(A1) 申请公布日期 1980.10.15
申请号 EP19800101236 申请日期 1980.03.11
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 DE BAR, DAVID E.;HAMAKER, RAYMOND W.;STEPHENS, GEOFFREY B.
分类号 H01L21/331;H01L21/8228;H01L27/082;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/73;(IPC1-7):01L29/72;01L29/08;01L29/52;01L29/56;01L27/08;01L29/40 主分类号 H01L21/331
代理机构 代理人
主权项
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