发明名称 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON STRUKTUREN AUS POSITIV-PHOTOLACKSCHICHTEN OHNE STOERENDE INTERFERENZEFFEKTE
摘要
申请公布号 DE2911503(A1) 申请公布日期 1980.09.25
申请号 DE19792911503 申请日期 1979.03.23
申请人 SIEMENS AG 发明人 WIDMANN,DIETRICH,DR.-ING.;BINDER,HANS
分类号 G03F7/09;(IPC1-7):H01L21/312 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人
主权项
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