发明名称 DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE COULEUR A SEMI-CONDUCTEURS ET METHODE DE FABRICATION DE CE DERNIER
摘要 <P>DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE COULEUR A SEMI-CONDUCTEURS CARACTERISE EN CE QU'IL COMPREND UN SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR 1 SUR LEQUEL SONT SUCCESSIVEMENT LAMINEES UN NOMBRE PREDETERMINE DE COUCHES FILTRANTES 2, 3, 4, DE FORME SOUHAITEE ET AUX CARACTERISTIQUES SPECTRALES PREDETERMINEES, ENTRE LESQUELLES SONT DISPOSEES UN NOMBRE PREDETERMINE DE COUCHES 5, 6, 7 D'UNE MATIERE ORGANIQUE, TRANSPARENTE, HAUTEMENT MOLECULAIRE ET SENSIBLE AU RAYONNEMENT. CE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR 1 POSSEDE AU MOINS UNE PARTIE DETECTRICE 10 COMPOSEE DE PLUSIEURS ELEMENTS DETECTEURS OPTIQUES.</P><P>LA METHODE DE FABRICATION D'UN TEL DISPOSITIF PEUT ETRE SIMPLIFIEE EN UTILISANT LA MATIERE HAUTEMENT MOLECULAIRE ET SENSIBLE AU RAYONNEMENT POUR LES COUCHES INTERMEDIAIRES 5, 6 OU LES COUCHES DE PROTECTION 7 QUI SONT EMPLOYEES POUR FORMER UNE CONSTRUCTION EN LAMELLES DES FILTRES DE DECOMPOSITION DE COULEUR 2, 3, 4.</P><P>DE PLUS, IL EST PARTICULIEREMENT SOUHAITABLE DE FORMER SUR LE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR 1, AVANT DE PLACER LES FILTRES SUR CE DERNIER, UNE PELLICULE D'UNE SUBSTANCE ORGANIQUE, HAUTEMENT MOLECULAIRE.</P>
申请公布号 FR2449974(A1) 申请公布日期 1980.09.19
申请号 FR19800004179 申请日期 1980.02.26
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 G02B5/20;H01L27/14;H01L27/146;(IPC1-7):H01L27/14;H01L31/18;H04N3/14 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人
主权项
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