WERKWIJZE VOOR HET VERVAARDIGEN VAN EEN HALFGELEIDERIN- RICHTING, WAARBIJ ONEFFENHEDEN VAN HET OPPERVLAK VAN EEN SUBSTRAAT WORDEN VERWIJDERD.

摘要

An even surface of an SiO2 layer on an Si body, whose surface is uneven, is obtained by the steps of forming a photoresist layer of KTFR (Trade name of Eastman Kodak Chemical Company) on the uneven surface of the SiO2 layer so as to have a thickness sufficient cover the unevenness of the surface and etching the SiO2 layer with said KTFR layer by rf sputter etching so as to expose a predetermined surface of the SiO2 layer.