| 摘要 |
<p>L'invention se rapporte à un système optique d'alignement de deux motifs et un photorépéteur mettant en oeuvre un tel système pour le positionnement de plaquettes semi-conductrices suivant deux axes de coordonnées. Selon l'invention, un premier motif constitué par deux réseaux optiques (41, 42) disposés suivant les deux axes de coordonnées (X, Y), est éclairé par l'image d'un second motif comprenant deux réseaux optiques (11, 12), formant référence, et produit des ordres de diffraction. Selon une variante, les réseaux optiques sont constitués d'une suite de traits parallèles dont l'épaisseur et la répartition spatiale suivant une direction (C) parallèle à un des zxes de coordonnées (X ou Y) sont déterminées par un code pseudoaléatoire ; les traits de réseaux optiques (41, 42) du premier motif étant en outre interrompus périodiquement suivant une direction (R), parallèle à l'autre axe de coordonnées (Y ou X) pour former un réseau optique à pas constant. Le système optique d'alignement comprend des moyens de détection (5) de l'intensité d'une partie prédeterminée des ordres de diffraction (R1) suivant la direction (R).</p> |
