| 摘要 |
<P>L'invention concerne des composés organométalliques d'insertion. </P><P>Les composés de l'invention ont des structures stratifiées de sels insolubles dans l'eau comprenant un cation de métal tétravalent et un anion phosphate, arséniate ou vanadate acide. Il s'agit, par exemple, de composés d'insertion dans des structures stratifiées de phosphate, arséniate et vanadate d'uranyle et de trans-uranyl. Les hôtes incluants sont représentés par l'une des formules M(H1-y Ay XO4 )2.n H2 O et H1-y Ay TO2 XO4.n H2 O où M est au moins un cation tétravalent, A est au moins un cation monovalent, X est au moins un élément tel que P, As et V, T est au moins l'uranium ou un trans-uranien, y a une valeur de 0 à 1, n a une valeur de 0 à 6, et les hôtes inclus comprennent un cation organométallique formé d'un métal de transition auquel sont attachés 2 à 6 ligands. Les composés de l'invention sont utiles comme catalyseurs ou précurseurs de catalyseurs, réseaux de diffraction et substances d'échange cationique.</P>
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