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发明名称 METHOD OF FORMING BURIED LAYERS BY ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 KR1019800000705(B1) 申请公布日期 1980.07.21
申请号 KR1019720000793 申请日期 1975.05.22
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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