PATTERN FORMATION BY ANISOTROPIC ETCHING REAGENT,申请号JP19780159973-传众专利搜索

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发明名称	PATTERN FORMATION BY ANISOTROPIC ETCHING REAGENT
摘要
申请公布号	JPS5588336(A)	申请公布日期	1980.07.04
申请号	JP19780159973	申请日期	1978.12.27
申请人	FUJITSU LTD	发明人	OZAWA KIYOSHI
分类号	H01L21/306	主分类号	H01L21/306
代理机构		代理人
主权项
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