| 主权项 |
1﹒下式所示化合物之制法:其中R为氢,甲基、氯 或溴,R取代于吩环之3.4或5位,R1为 氢,C1─4低级烷基,C1─4低级烷氧基, 氯,氟或溴,R1取代于芳醯基之邻、间或对位 ,R2为氢,C1─4低级烷基,其特征为,将 下式之化合物加以酸性或硷性水解式中,Y(和 R,R1及R2)意义同上。 2﹒如请求专利部份第1项之方法,其中,水解是在 酸性条件下进行者。 3﹒如请求专利部份第1项之方法,其中,水解是在 硷性条件下进行者。 4﹒如请求专利部份第1.2或3项之方法,以制造 5─(2─吩甲醯基)─1,2─二氢─3H ─咯并[1,2─a]咯─1─羧酸者。 5﹒如请求专利部份第1.2或3项之方法,以制造 5─苯醯基─1,2─二氢─3H─咯并[1 ,2─a]喀1─1羧酸者。 6﹒如请求专利部份第1.2或3项之方法,以制造 5─间─氯苯醯基─1,2─二氢─3H─咯 [1,2─a]咯─1─羧酸者。 |
