| 发明名称 |
Sputter target |
| 摘要 |
The disclosure relates to an improved sputter target for use in the deposition of hard coatings. An exemplary target is given wherein titanium diboride is brazed to a tantalum backing plate using a gold-palladium-nickel braze alloy.
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| 申请公布号 |
US4209375(A) |
申请公布日期 |
1980.06.24 |
| 申请号 |
US19790063008 |
申请日期 |
1979.08.02 |
| 申请人 |
U S OF AMERICA ENERGY DEPARTMENT |
发明人 |
GATES, WILLARD G;HALE, GERALD J |
| 分类号 |
B23K35/30;C23C14/34;(IPC1-7):C23C15/00 |
主分类号 |
B23K35/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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