发明名称 Process and device for the interferometric measurement of changing film thicknesses.
摘要 <p>Die zu untersuchende durchsichtige Schicht (12) wird mit weißem Licht unter konstantem Einfallswinkel bestrahlt und die Intensität zweier ausgewählter, voneinander verschiedener Wellenlängen im reflektierten Licht registriert. Inter ferenzerscheinungen in der Schicht mit kontinuierlicher Dickenänderung führen zu periodischen Intensitätsschwankungen bei beiden Wellenlängen. Durch Vergleich der beiden Intensitätskurven (z.B. zusammenfallende Extrempunkte A, B, C) kann die absolute Schichtdicke eindeutig bestimmt werden, obwohl die Ausgangsdicke der Schicht nur innerhalb eines bestimmten Bereichs bekannt ist. Zur Vereinfachung des Phasenvergleichs der beiden zyklischen Intensitätsmuster Können die Wellenlängen so ausgewählt werden, daß bestimmte Extrempunkte beider Signale bei einer Schichtdicke zusammenfallen, die geringer als die zu erwartende minimale Anfangsdicke ist und daß bei größeren Dicken bis einschließlich der maximalen erwarteten Anfangsdicke, keine Koinzidenz auftritt. Das Verfahren ist sowohl für additive als auch subtraktive Änderungen der Schichtdicke anwendbar. Die Einrichtung zur Schichtdickenmessung enthält Schmalbandfilter (31, 32) mit schiefem Strahleinfall, die als Strahlteiler wirken.</p>
申请公布号 EP0011723(A1) 申请公布日期 1980.06.11
申请号 EP19790104231 申请日期 1979.10.31
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 GASTON, CHARLES ARDEN;KIRK, JOSEPH PENNELL;WASIK, CHESTER ALEXANDER
分类号 G01B11/06;(IPC1-7):01B11/06 主分类号 G01B11/06
代理机构 代理人
主权项
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