摘要 |
Eine CVD-Beschichtungsvorrichtung für Kleinteile weist ein, zweckmäßig kühl- oder wärmbares, Doppelwandgefäß (1), als Reaktionsraum auf, in dem ein Suszeptor (14), der ein der Aufnahme der gleichzeitig zu beschichtenden Kleinteile dienendes Traggestell (8) mit mindestens zwei Thermoelementen (12,13) zur Temperaturkontrolle enthält, angeordnet ist. Der Reaktor (1) besitzt ferner eine Gaszuführung (4,5,6,), die in der Höhe verstellbar und drehbar ausgebildet ist, sowie eine Gasabführung. Der Suszeptor (14) kann durch eine Induktionsspule (15) zum Glühen gebracht werden. Zum abschließenden, möglichst raschen Abschrecken der beschichteten Teile aus dem Suszeptor (14) ist das Traggestell (8) mit der Gaszuführungsleitung (4) koppelbar; zum Bespülen mit Gas ist eine zusätzliche Gasleitung (18) am Reaktor (1) vorgesehen. Mit der Vorrichtung können z.B. Dentalbohrer bzw. -turbinen mit einer 5 mm starken verschleißmindernden Schicht von Titancarbid und -nitrid überzogen werden.
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申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN |
发明人 |
POLITYCKI, ALFRED, DR.;HIEBER, KONRAD, DR.;STOLZ, MANFRED |