| 发明名称 |
TREATING METHOD OF SEMICONDUCTOR SURFACE WITH HEAT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5568639(A) |
申请公布日期 |
1980.05.23 |
| 申请号 |
JP19780141162 |
申请日期 |
1978.11.17 |
| 申请人 |
CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI |
发明人 |
IWAMATSU SEIICHI |
| 分类号 |
H01L21/263;H01L21/22;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/263 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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