| 发明名称 |
METHOD OF FORMING NARROW MASK OPENING IN SILICON SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5563827(A) |
申请公布日期 |
1980.05.14 |
| 申请号 |
JP19790130940 |
申请日期 |
1979.10.12 |
| 申请人 |
IBM |
发明人 |
AABINGU TSUU HOU;JIEIKABU RAIZUMAN |
| 分类号 |
H01L29/73;H01L21/033;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/331;H01L21/336;H01L21/76;H01L21/762;H01L29/10;H01L29/78 |
主分类号 |
H01L29/73 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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