| 主权项 |
1.在含有硷性高锰酸蚀刻组成物中再生用完的高锰酸根醯子的方法,所述方法包括在此组成物中周期性加入足够量之基本上可将组成物中之所有高锰酸盐之锰离子氧化为高锰酸根离子之氧化剂;此氧化剂系选自于由无机过二硫酸盐(Peroxydisulfat-e),无机过二硫酸盐及无机次氯酸盐混合物,以及无机过二硫酸盐及无机氯酸混合物所组成之族群。2.依申请专利范围第1项之方法,其中氧化剂为无机的过二硫酸盐。3.依申请专利范围第1项之方法,其中,氧化剂为无机过二硫酸盐及无机的次氯酸盐之混合物。4.如申请专利范围第1项之方法,其中,氧化剂为无机过二硫酸盐及无机的氯酸盐。图示简单说明:图1所示为实施例4中,Wt对时间之数据所作的图形。图2为实施例5中,Wt对时间之数据所作的图形。图3为实施例6中,Wt对时间之数据所作的图形。图4为实施例7中,Wt对时间之数据所作的图形。图5为实施例8中,Wt对时间之数据所作的图形。图6为实施例9中,Wt对时间之数据所作的图形。 |
