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发明名称 A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SUBMICRON GATE GAAS MESFET'S USING CONTACT PHOTOLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 IN165431(B) 申请公布日期 1989.10.14
申请号 IN1985DE40019 申请日期 1985.05.15
申请人 COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH 发明人 SINGH, BABU RAM;DAGA, OM PRAKASH;KHOKLE WAMAN SADASHIV
分类号 G03C1/04;G03C1/50;(IPC1-7):G03C1/90 主分类号 G03C1/04
代理机构 代理人
主权项
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