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<P>La présente invention concerne un procédé de développement d'images électrostatiques latentes. </P><P>Ce procédé consiste à maintenir magnétiquement une couche d'un révélateur en poudre à un seul composant relativement conducteur présentant une résistivité inférieure à 10**13 OMEGA -cm sur la surface d'un élément de retenue du révélateur et à mettre en contact le révélateur sur la surface de l'élément de retenue du révélateur avec la surface du matériau support d'image, l'élément support d'image présentant une résistance, mesurée par la méthode de mesure de résistance point-plan, de 3 x 10**7 OMEGA à 1 x 10**10 OMEGA dans un environnement maintenu à une température de 20 degrés C et avec une humidité de 50 %. </P><P>Ce procédé est utilisé pour éliminer les défauts des procédés de copiage électrostatique usuels.</P>
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