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Positive Elektronenstrahl-Resistlackbindemittel aus (co)polymerisierten Einheiten von A. 0 - 95 Mol-% von mindestens einem C1 bis C20-Alkylester der Methacrylsäure, B. 5 - 100 Mol-% von mindestens einem Monomeren der allgemeinen Formel (I) <IMAGE> worin n = 0 oder 1, und falls n = 1 einer der Reste X oder Y stets Wasserstoff ist, und X oder Y einen durch mindestens ein Halogenatom (Fluor, Chlor, Brom) substituierten Phenyl- oder Naphthylrest bzw. einen Phenyl- oder Naphthylrest, die durch mindestens einen rest aus der Gruppe C1 - C8 alkyl, C1 - C8 Alkoxy, Carboxy, Cyan, Carboxyalkyl mit 1 - 4 C-Atomen in der Alkylgruppe oder C1 - C8-Alkylcarbonyl (-CO-Alkyl) substituiert sind, oder falls n = 1, einen Halogenalkylcarbonylrest mit 1-4 C-Atomen im Alkylrest bzw. einen Halogenarylcarbonylrest (Phenyl, Naphthyl) bedeuten, uhd von gegebenenfalls weiteren Monomeren.
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