发明名称 娠烷系–19–氧化类固醇化合物之制法
摘要
申请公布号 TW028978 申请公布日期 1980.03.01
申请号 TW06711121 申请日期 1978.05.29
申请人 汽巴–嘉基股份有限公司 发明人 米契尔.比欧拉兹
分类号 A61K31/565;C07J1/00 主分类号 A61K31/565
代理机构 代理人 陈世雄 台北巿大安区一○六六一敦化南路六九五号八楼
主权项 1﹒制造式1娠烷系19─氧化类固醇之方法式中R ^1系氢原子,R2系一定向低级烷醯硫基, 或R^1及R^2一起系碳─碳键,或─或一 定向次甲基,R^3系自由羟甲基或被低级烷基 所醚化之羟甲基,或被低级烷醯基所醯化之羟甲 基,或系甲醯基,羧基,或低级烷氧羰基,及R ^4系氢原子或羧酸之醯基Ac;及其对应之1 ,2─脱氢衍生物,及含有自由羟基之所有化合 物所形成的盐;其特征是使含有被保护之3─及 /或20氧化基之对应衍生物藉氧化基之释放 而移除保护基,或使式II之17─异构化合 物以烯醇化剂处理。式中R^1,R^2,R^3 及R^4之意义如前述,或使任意醯化(2─羟 乙醯)侧链引入对应之式III17─氧化物式 中R^1,R^2及R^3如前述;或为了制造式 R^1及R^2一起系碳─碳链,或其1,2─氢 衍生物,则使对应之式IV6,7─饱和开物质 或其1,2─脱氢衍生物,或1,2─和化合物 之3─烯醇醚在6,7─位置脱氢或任意同时在 1,2─位置脱氢,并在3─置分裂任意存在之 醚基,式中R^3及R^4如前述;或为了制造式 R^1及R^2一起系C─C键,R^3系低级烷 醯甲基及R^4系醯基Ac之式I化合物,则使 V之对应之6,19─环氧化物在无水介质, 以强酸为催化剂,和由低级烷酸所衍生之化剂反 应而得之,式中R^4如前述;若欲制造式中R ^1系氢原,R^2系一定向低级烷醯硫基之式 I中化物,则使式中R^1及R^2一起系C─C 键式I化合物和低级烷硫酸进行添加反应;若制 造式中R^1及Ra一起系次甲基之式I化 物, 则使式中R^1及R^2一起系C─C键之式I化 合物进行添加次甲基反应;必要时,亦可使所得 产物中之R^3及/或OR^4之酯化羟基利用水 解予于释放,或使自由羟基酯化,及/或必要时 ,使10─羟甲基氧化成甲醯基或羧基,或甲 醯基氧化成羧基,及/或使羧基酯化及/或使酯 化之羧基释放,及/或必要时,使1,2─饱和 产物在1,2一位置脱氢,及/或必要时,使具 有自由羧基之产物以硷处理转变成盐类,或使此 类之盐加以酸化而转变成对应之酸。 2﹒依第1项之方法,其特征是被保护成缩酮或硫代 缩酮基形式之3─及/或20氧化基被释放。 3﹒依第1项之方法,其特征是烯醇化剂为强硷。 4﹒依第1项之方法,其特征是烯醇化剂为酸。 5﹒依第1项之方法,其特征是对应之17─氰基 化合物为引入侧链之中间体。 6﹒依第1项之方法,其特征是对应之17─羧酸 为引入侧链之中间体。 7﹒依第6项之方法,其特征是使酸转变成醯氯,接 和重氯甲烷反应,得21─重氮─20─酮, 又以酸AcOH处理转变成21─氧─21─醯 氧最后产物。 8﹒依第1项之方法,其特征为使对应之17─羧 醛做为引入侧链之中间体,并以由甲醛二甲基缩 硫醛S─氧化物经有机硷金属化合物金属取代所 得之反应剂处理,又以所得之20─羟基─21 ─醛衍生物进行酸水解。 9﹒依第1及8项任一项之方法,其特征为该反应是 在暂时保护3─氧化基之条件下进行。 10﹒依第9项之方法,其特征是3─氧化基系保护成 3,3一次乙二硫基。 11﹒依第9项之方法,其特征为利用具有脱氢作用之 辊引发脱氢反应。 12﹒依第1项之方法,其特征是3─烯醇醚经二氧化 锰的作用而脱氢。 13﹒依第1项之方法,其特征是使对应之6,7─脱 氢化合物和二甲氧磺甲基化合物反应,而引入次 甲基。 14﹒依第1至13项任一项之方法,其特征为适当地 选择开始物质及步骤,可制得式Ia化合物,其 1,2─脱氢衍生物及其盐:式中R^1系氢原 子,R^2系一定向低级烷醯硫基,或R^1及 R^2一起系碳─碳键,或─或一定向次甲 基。R^3a系自由羟甲基,或被低级烷基所醚 化之羟甲基,或被低级烷醯基所酯化之羟甲基, 或是羧基或低级烷氧羰基。R^4系氢原子,或 羧酸之醯基Ac。 15﹒依第14项之方法,其特征是第14项所定义之 式Ia化合物之制备条件是在1,2一饱和化合 物中R^1及R^2是C─C键,R^4系醯基A c,Ra^3系被低级烷基所醚化之羟甲基,或 被低级烷醯基所酯化之羟甲基。或系羧基或低级 烷氧羰基;及在1,2一饱和化合物中,R^1 及R^2一起系C─C键,R^4系氢原,Ra^ 3系自由羟甲基,或较佳为被低级烷基所醚化或 被乙醯以外之低级烷醯所酯化之羟甲基,或系羧 基,或低级烷氧羰基。 16﹒依第1至15项任一项之方法,其特征为可用任 何阶段之中间体直接做为开始物质,而进行其余 之步骤。 17﹒依第1至16项任一项之方法,其特征为开始物 质系在反应条件下制备,或以其衍生物之形态使 用之。 18﹒例1至9所述之方法。 19﹒依第1至18项任一项之方法,其特征为适当地 选择开始物质及步骤,可制得式Ia化合物,其 中Ra^3系自由羟甲基,或被低级烷醯基所 酯 化之羟甲基,R^4系氢或醯基。 20﹒依第1至18项任一项之方法,其特征为适当地 选择开始物质及步骤,可制得式Ia化合物,其 中R^1系氢,R^2系─乙醯硫基,或R^1 及R^2一起系一定向次甲基,Ra^3系羟甲 基,低级烷醯氧甲基,或低级烷氧羰基,R^4 系氢或低级烷醯基。 21﹒依第1至18项任一项之方法,其特征为适当地 选择开始物质及步骤,可制得式ia化合物式中 Ra^1系低级烷醯基Ra^2系醯基Ac。 22﹒依第21项之方法,其中Ra^1系乙醯除外之 低级烷醯基,Ra^2系氢原子。 23﹒依第21项之方法,其特征为适当地选择开始物 质及步骤,可制得19,21─二羟基娠─4, 6─二烯─3,20─二酮。 24﹒依第21项之方法,其特征为适当地选择开始物 质及步骤,可制得19,21─二羟基娠─4, 6─二烯─3,20─二酮─19,21─二醋 酸酯。 25﹒依第21项之方法,其特征为适当地选择开始物 质及步骤,可制得19,21─二羟基娠─4, 6─二烯─3,20─二酮─19─醋酸酯或─ 21─醋酸酯。
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