| 主权项 |
1﹒制造包含下式之20─脱氧纳莱星及下式之20 ─脱氧─表式─17─纳莱星之脱氧纳莱星抗生 素复合物或其药物可接受盐之方法,该方法之特 点为使具有与NRRL11181实质相同之生 物合成能力之Streptomycesaur eofaciens在含有可同化之醣,氮及无 机盐源之培养基中于液面不需氧醱酵条件下培养 ,直至产生出实质数量之抗生素活性为止,及收 回成为酸或其药物可接受盐类形式之抗生素复合 物者。 2﹒根据上述请求专利部份第1项之方法,其特点为 Streptomycesaureofaci ens系称为NRRL11181之菌体者。 3﹒根据上述请求专利部份第1项或第2项之方法, 其特点为将该脱氧纳莱星抗生素复合物,或其药 物可接受之盐类从培养基内分离出者。 4﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其特点为 将20─脱氧纳莱星或其药物可接受盐从脱氧纳 莱星抗生素复合物内分离出者。 5﹒根据上述请求专利部份第3项之方法,其特点为 将20─脱氧─表式─17─纳莱星或其药物可 接受盐从脱氧纳莱星抗生素复合物内分离出者。 6﹒根据上述请求专利部份第1项至第5项中任何一 项之方法,其特点为将脱氧纳莱星抗生素复合物 ,20─脱氧纳莱星,或20脱氧─表式─17 ─纳莱星成为药物可接受盐之形式收回者。 |
