| 发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION DE PLAQUETTES SENSIBLES POUR DOSIMETRES A ELECTRONS |
| 摘要 |
<P>Procédé de réalisation d'une plaquette sensible pour dosimètre à exoélectrons par réalisation sur un support d'un dépôt d'un mélange de deux composés. </P><P>Ce procedé comprend les étapes suivantes : - on réalise un mélange homogène des poudres constituant les deux composés, - on crée à l'aide d'un chalumeau à plasma d'arc un jet de plasma à proximité du support sur lequel on veut réaliser le dépôt, - on projette ledit mélange de poudres dans ledit jet pour obtenir un dépôt adhérent sur ledit support, - on applique à la plaquette revêtue un traitement thermique à une température inférieure à 900 degrés C. </P><P>Application à la réalisation de détecteur par exoélectrons.</P>
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| 申请公布号 |
FR2432717(A1) |
申请公布日期 |
1980.02.29 |
| 申请号 |
FR19780012511 |
申请日期 |
1978.04.27 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
MAURICE DUCOS, PIERRE MANFREDI, MAURICE PETEL ET GUY PORTAL;MANFREDI PIERRE;PETEL MAURICE;PORTAL GUY |
| 分类号 |
C23C4/10;C23C26/00;G01T1/02;(IPC1-7):G01T1/02 |
主分类号 |
C23C4/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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