High-resolution X-ray lithographic system and a method for fabricating microminiature devices by irradiating with such a system.

摘要

Les systemes lithographiques a rayons X fabriques jusqu'a present comprennent une chambre a faible attenuation (40) de propagation des rayons X provenant d'une source (32) et diriges vers un cache (44) qui est place a proximite etroite d'un disque avec revetement - reserve (49). Le cache et le disque sont inclus dans la chambre qui est, de facon caracteristique, soit remplie d'helium, soit sous vide a une pression inferieure a 10-2 Torr environ. Selon cette invention, un systeme lithographique a rayons X est construit pour permettre d'etablir, dans la region disque-cache, une atmosphere controlee qui est separee et differente de celle maintenue dans la chambre a faible attenuation. De cette maniere, on obtient un systeme lithographique ameliore ayant un debit de traitement avantageux et d'autres avantages.