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发明名称 METHOD OF PHOTORESIST DEVELOPING
摘要
申请公布号 JPS5511311(A) 申请公布日期 1980.01.26
申请号 JP19780083018 申请日期 1978.07.10
申请人 HITACHI LTD 发明人 SASAKI TAMOTSU;NONAKA TOSHIO;KAMEYAMA KATSUNORI
分类号 H01L21/30;H01L21/027;H01L21/302 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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