发明名称 DISPOSITIF LASER SEMI-CONDUCTEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE DERNIER
摘要 <P>Dispositif laser semi-conducteur comprenant un assemblage semi-conducteur qui comporte un substrat de croissance cristalline à la surface duquel se trouve une seconde couche semiconductrice, une première couche semi-conductrice à région active formée sur ledit substrat et une troisième couche semiconductrice, l'indice de réfraction de chacune des seconde et troisième couches semi-conductrices étant inférieur à celui de la première couche et leurs intervalles de bande plus larges que celui de cette première couche semi-conductrice, une premiere électrode formée sur une surface dudit assemblage semi-conducteur du côté de la troisième couche semi-conductrice, une seconde électrode formée sur une surface de l'assemblage semi-conducteur du côté du substrat, et au moins un système pour réaliser une réaction optique destinée à produire des radiations optiques.</P>
申请公布号 FR2430110(A1) 申请公布日期 1980.01.25
申请号 FR19790016716 申请日期 1979.06.28
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 H01L21/208;H01S5/00;H01S5/042;H01S5/12;H01S5/223 主分类号 H01L21/208
代理机构 代理人
主权项
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