| 发明名称 |
SEMIICONDUCTOR LAYER THICKNESS MEASURING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS552982(A) |
申请公布日期 |
1980.01.10 |
| 申请号 |
JP19780076874 |
申请日期 |
1978.06.23 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
SUGAWA TOSHIO;KONUMA TAKESHI;ICHINOHE EISUKE |
| 分类号 |
G01B11/06;G01B21/08;H01L21/66 |
主分类号 |
G01B11/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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