发明名称 |
POSTIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION |
摘要 |
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申请公布号 |
KR940007782(B1) |
申请公布日期 |
1994.08.25 |
申请号 |
KR19860009934 |
申请日期 |
1986.11.25 |
申请人 |
HOECHST AG. |
发明人 |
LUKERD, HANS;KNAUL, YOAHIM |
分类号 |
G03C1/00;G03C1/72;G03F7/004;G03F7/105;(IPC1-7):G03C5/16 |
主分类号 |
G03C1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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