发明名称 |
PLASMA TREATING APPARATUS |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPH10144662(A) |
申请公布日期 |
1998.05.29 |
申请号 |
JP19970264821 |
申请日期 |
1997.09.11 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD;SHIN ETSU CHEM CO LTD |
发明人 |
ARAMI JIYUNICHI;ONO HIROO;KONDO TOMOMI;MIYATA KOJI |
分类号 |
H05H1/46;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|