| 主权项 |
1﹒制备以至少一个下式之可金属化染料作为基体形成之1:1及1:2金属错合化活性染料之方法式中D=一可金属化之重氮成份而在相对于偶氮桥键之邻位有OH基或COOH基者K=一耦合成份其可在酚醇或烯醇OH基之邻位发生耦合结合者,w=R,R1及R2=H或一取代基Y=可裂解脱去之基,尤其是卤素及Z=一二价之有基根基而且式中之─N─基可直接或经由一桥基连结到D或K之芳香环C原子上。该制法系(a)由以至少一个下列化学式(X)之可金属化染料作基体所形成之1:1或1:2金属错合物与下式(XI)化合物相反应制得式中Y1=可裂解脱离掉之根基,尤其是卤素,如CI,在操作时以每一一NH一R基团与1莫耳之式(XI)化合物反应较佳,然后将制得之产物予以金属错合化;或(b)首先由1:1或1:2之式(X)染料所形成之金属错合物,每一一NH一R根团与1莫耳之化合物(XII)反应式中Y,Y1及Y2=可裂解脱离掉之根基,尤其是卤素,如Cl,然后所得之产物与等当量之式(XIII)化合物反应式中R1,Z及R2具有如上述之意义。取计最之三聚氰酸在有机溶剂(例如丙酮)之溶液,或悬浮水溶液,加入调至0℃之金属错合化染料溶液或悬浮液中,其pH以硷(例如稀碳酸钠溶液)维持在4-7,此混合物在0下搅动直至起始原料之染料消失,然后将计量之下列化合物之水溶液或含水糊加入,此反应溶液之则藉添加硷(例如稀碳酸钠溶液):维持在:4-6﹒5并加温至40-50,于2-5小时后结束此反应;或(c)先由下式(X)之染料依据(a)及(b)所述制法之一进行反应,生成下式(XI)之反应活性染料再将此生成物金属错合化以化成1:1或1:2之金属错化染料。(d)依据(a)或(b)所述制法之一先将适宜之耦合成份化合物与反应活性成份反应,再将一偶氮成份耦合连结到此生成物上,然后再将所再之耦合产物金属化。2﹒依据请求专利事项第1项之一种制法,其中所制备之该金属错合化活性染料为对称型1:2金属错合化染料者。3﹒依据请求专利事项第1或2项之一种制法,其中之金属为﹒Cr﹒或Co者。4﹒依据请求专利事项第1项制法以制备以下式染料为基体之1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法式中R4=NO2,SO3H或CI及W具有如请求事项第1项中所述之意义。5﹒依据请求专利事项第1项制法以制备以下式染料为基体之1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法R1及W之意义如请求专利部份第4项所述。6﹒依据请求专利事项第1项制法以制备以下式染料为基体之1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法R4及W具有如请求专利事项第4项所述之意义。7﹒依据请求专利事项第1项制法以制备以下式染料为基体之1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法式中而式中R4及W具有如请求专利事项第4项所述之意义。8﹒依据请求专利事项第1项制法以制备以下式染料为基体之1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法式中R3=C1─C4─烷基,CN,COOH或CONH2,R5为SO3H,卤素(尤其是Cl),或C1─C4─烷基及R4和W具有如请求专利事项第4项所述之意义。9﹒依据请求专利事项第1项及第4项任一项之制法以制备以请求专利事项第4-8项之染料为基体之对称性1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法。10﹒依据请求专利事项第1项及第5至9项任一项之制法以制备以请求专利事项第5-9项之染料及相对应于5-9项染料而其中之一NH一W换成H,NH2,乙醯氨基或醯氨基之染料为基体之非对称性1:2Cr错合物及1:2Co错合物之方法。 |
