发明名称 |
トロイダルプラズマ処理装置 |
摘要 |
導管、プロセスチャンバ、およびガスを真空チャンバの中に導入するための第1のガス入力ポートと、ガスを真空チャンバから排気するためのポンプポートとを備える、真空チャンバを含む、プラズマ処理装置。磁気コアは、導管を囲繞する。RF電力供給源出力は、磁気コアに電気的に接続される。RF電力供給源は、磁気コアを励起し、それによって、トロイダルプラズマループ放電を真空チャンバ内に形成する。プラズマ処理の間、ワークピースを支持する、取付盤は、プロセスチャンバ内に位置付けられる。 |
申请公布号 |
JP2016520950(A) |
申请公布日期 |
2016.07.14 |
申请号 |
JP20160502655 |
申请日期 |
2014.03.14 |
申请人 |
プラズマビリティー, エルエルシー |
发明人 |
ホルバー, ウィリアム;バスネット, ロバート ジェイ. |
分类号 |
H05H1/46;C23C16/26;C23C16/505;H01L21/205 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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