发明名称 トロイダルプラズマ処理装置
摘要 導管、プロセスチャンバ、およびガスを真空チャンバの中に導入するための第1のガス入力ポートと、ガスを真空チャンバから排気するためのポンプポートとを備える、真空チャンバを含む、プラズマ処理装置。磁気コアは、導管を囲繞する。RF電力供給源出力は、磁気コアに電気的に接続される。RF電力供給源は、磁気コアを励起し、それによって、トロイダルプラズマループ放電を真空チャンバ内に形成する。プラズマ処理の間、ワークピースを支持する、取付盤は、プロセスチャンバ内に位置付けられる。
申请公布号 JP2016520950(A) 申请公布日期 2016.07.14
申请号 JP20160502655 申请日期 2014.03.14
申请人 プラズマビリティー, エルエルシー 发明人 ホルバー, ウィリアム;バスネット, ロバート ジェイ.
分类号 H05H1/46;C23C16/26;C23C16/505;H01L21/205 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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