METROLOGY METHOD AND APPARATUS LITHOGRAPHIC APPARATUS LITHOGRAPHIC PROCESSING CELL AND SUBSTRATE COMPRISING METROLOGY TARGETS

摘要

메트롤로지 장치는 오프-액시스 조명 모드로 복수의 타겟들을 조명하도록 배치된다. 타겟들의 이미지들은 단 하나의 1 차 회절 빔을 이용하여 얻어진다. 타겟이 복합 격자인 경우, 오버레이 측정들은 상이한 격자들의 이미지들의 세기들로부터 얻어질 수 있다. 오버레이 측정들은 이미지 필드에서 격자들의 위치 변화들에 의해 야기되는 오차들에 대해 보정될 수 있다.