空間的に分散されたガス流路を有する流量制御ライナー

摘要

本開示の実施形態は、複数の個々に分離されたガス流路を含むライナーアセンブリを提供する。ライナーアセンブリにより、処理される基板を横断する速度、密度、方向及び空間配置などのフローパラメータの同調性が有効となる。処理される基板を横断する処理ガスは、本開示の実施形態により、ライナーアセンブリによって個々の処理に対して特別に調整されうる。【選択図】図１Ｂ