| 发明名称 |
FORMATION METHOD OF CONDUCTIVE REGION OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS54134990(A) |
申请公布日期 |
1979.10.19 |
| 申请号 |
JP19780043458 |
申请日期 |
1978.04.12 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
TSUBOUCHI NATSUO;ABE HARUHIKO;NISHIMOTO AKIRA;MIYOSHI HIROKAZU |
| 分类号 |
H01L21/3205;H01L21/302;H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
