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发明名称 METHOD OF FABRICATING XXRAY EXPOSURE MASK
摘要
申请公布号 JPS54132171(A) 申请公布日期 1979.10.13
申请号 JP19780040708 申请日期 1978.04.06
申请人 CHO LSI GIJUTSU KENKYU KUMIAI 发明人 HIDEJIMA KEISHIN
分类号 H01L21/308;H01L21/302 主分类号 H01L21/308
代理机构 代理人
主权项
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