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发明名称 FORMATION OF CONTACT REGION BETWEEN LAYERS OF POLYSILICON
摘要
申请公布号 GB2017402(A) 申请公布日期 1979.10.03
申请号 GB19790000173 申请日期 1979.01.03
申请人 INTEL CORP 发明人
分类号 H01L27/04;H01L21/306;H01L21/321;H01L21/3215;H01L21/331;H01L21/768;H01L21/822;H01L21/8244;H01L23/522;H01L27/11;H01L29/73;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
主权项
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