System for checking a pattern on a flat base.

摘要

L'invention se rapporte au contrôle d'images inscrites sur un support plan avec une forte densité par rapport à un motif de référence. Le système selon l'invention comprend un dispositif d'analyse du dessin à partir d'un détecteur en ligne et une logique de traitement des données fournies par le détecteur et de données se rapportant au motif de référence, le dessin et le motif étant décrits ligne par ligne. La logique est prévue de façon à détecter les erreurs en admettant pour chaque ligne un décalage entre le dessin et le motif d'une unité dans une direction X ou une direction Y perpendiculaire à X, le décalage maximum autorisé pour tout le dessin étant par exemple de 3 unités dans le même sens. L'invention s'applique notamment au contrôle de masques et de réticules pour la fabrication des circuits intégrés.