| 摘要 |
<P>L'invention concerne la fabrication des circuits intégrés. Une résistance de valeur élevée, réalisée par implantation ionique, est entièrement recouverte par une plaque de champ 15, constituée par une couche conductrice. Cette plaque est avantageusement connectée à la borne la plus négative de la résistance, et atténue fortement les variations de la valeur de la résistance en fonction du temps ou de la tension appliquée. Application aux circuits intégrés linéaires.</P>
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