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a. Appareil de lithographie à rayons X et procédé d'utilisation. b. Il comprend une anti-cathode en tungstène, l'appareil fonctionnant de façon à produire la ligne M du tungstène, cette ligne se situant à une longueur d'onde qui sera absorbée par le support utilisé normalement pour lithographie. Pour développer le support, qui a été conçu initialement pour être utilisé dans la lithographie par faisceau d'électrons, on développe dans un premier temps avec une haute concentration et dans un deuxième temps avec une concentration la plus faible permettant d'obtenir un développement complet c. Applications courantes.
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