| 发明名称 |
Method of making semiconductor devices by double masking |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US3342650(A) |
申请公布日期 |
1967.09.19 |
| 申请号 |
US19650429865 |
申请日期 |
1965.02.02 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA HITACHI SEISAKUSHO |
发明人 |
SEKI TAKEO;TAUCHI SHOJI;TAKAGI TAKESHI |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/316;H01L29/00 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
