| 发明名称 |
HEAT RESISTANCE PHOTORESIST COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5488116(A) |
申请公布日期 |
1979.07.13 |
| 申请号 |
JP19770155610 |
申请日期 |
1977.12.26 |
| 申请人 |
ASAHI CHEMICAL IND |
发明人 |
OOMURA KAORU;SHIBAZAKI ICHIROU;KIMURA TAKEO |
| 分类号 |
H01L21/027;C08L79/08;G03F7/038;H01L21/302;H05K3/00;H05K3/06 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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