| 发明名称 |
METHOD AND EQUIPMENT FOR AUTOMATICALLY CONTROLLING PRINCIPAL COMPONENT OF CHEMICAL COPPER PLATING SOLUTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5483635(A) |
申请公布日期 |
1979.07.03 |
| 申请号 |
JP19770150497 |
申请日期 |
1977.12.16 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OKA HITOSHI;NAKAMURA KENJI |
| 分类号 |
C23C18/16;C23C18/31;C23C18/40 |
主分类号 |
C23C18/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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