| 发明名称 |
WAFER ADHESION*SEPARATION MECHANISM FOR MASK ALIGNER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5482173(A) |
申请公布日期 |
1979.06.30 |
| 申请号 |
JP19770149222 |
申请日期 |
1977.12.14 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NISHIZUKA HIROSHI;MAEJIMA HIROSHI;YOSHIDA KIYOSHI;MORITA MITSUHIRO |
| 分类号 |
H01L21/30;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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