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PROCEDE DE REGLAGE D'UNE DIFFUSION DE GALLIUM DANS AU MOINS UNE PLAQUETTE DE SILICIUM A L'INTERIEUR DU TUBE OUVERT D'UN FOUR DE DIFFUSION AVEC COMBUSTION PARTIELLE D'UN MELANGE GAZEUX D'HYDROGENE ET D'OXYGENE AUQUEL DE L'AZOTE EST EVENTUELLEMENT ADDITIONNE.LE DISPOSITIF COMPREND UN APPAREIL DE COMMANDE CENTRAL 10, DES CONDUITS 11, 12, 13 D'ARRIVEE D'HYDROGENE, D'OXYGENE ET D'AZOTE EQUIPES DE VANNES REGLABLES ET DE REGULATEURS DE DEBIT, UN FOUR 24 CONTENANT LA SOURCE FORMEE D'OXYDE DE GALLIUM 26 ET UN FOUR DE DIFFUSION PRINCIPAL 25. LA COMBUSTION A LIEU DANS UNE CHAMBRE 23 QUI PRECEDE IMMEDIATEMENT LA SOURCE.APPLICATION A LA PRODUCTION DE COMPOSANTS A SEMI-CONDUCTEURS DE PUISSANCE DANS LESQUELS DIFFERENTS PROFILS DE DOPAGE DOIVENT ETRE SUPERPOSES.
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