氢氯酸流中水的清道夫

摘要

本发明系关于将HCl气流和矽或具有至少四价金属之氯化物接触，使HCl气流的含水量降至低于１ppm。1986年 3 月19日在美国申请专利第841,440号1987年 1 月29日在美国申请专利第008,683号

主权项

l 一种降低HCl气流的水含量至低于1PP" 的方法,包括使此气流和矽和钨的氯化物接触。2 如申请专利范围第1 项之方法,其中氯化物为S i Cl 。 。全 13 如申请专利范围第2项之方法,其中S iCl。系藉由和一固体载体反应而回定的4 加申请专利范围第3项之方法,其中气态S iCl。系和一氧化铝载体反应。