Ion source, in particular for an ion implantation device.

摘要

L'invention a pour objet une source d'ions, notamment pour implanteur ionique. La source d'ions est caractérisée en ce que les amenées de courant (14) sont constituées par un tube métallique (24) realisé en un métal autre que le cuivre; à l'intérieur de ce tube est disposé un conducteur en cuivre (26). Application à la réalisation d'implanteurs ioniques notamment pour des applications aux semiconducteurs.